猎头公司11月9日人才推荐 某半导体公司 光刻工艺工程师30万
自我评价：
熟练操作多种光刻相关设备，包括光刻机、涂胶显影机、扫描电子显微镜（SEM）、光刻层间对准精度（OVL）量测设备等。
对光刻工艺有着深入且全面的理解。能够依据产品经理提出的要求，精确设计涂胶、曝光、显影的工艺配方（Recipe）。在光刻过程中出现异常情况时，凭借丰富的经验和专业知识可以迅速、有效地解决问题，保障生产流程的顺利进行。
工作经历：
某半导体科技股份有限公司（2020.06——至今），光刻工艺工程师。
光刻工作方面：
负责某曝光机的光刻操作，全面涵盖涂胶recipe、曝光recipe、显影recipe的建立、优化、维护以及工艺稳定性监控。主要制作线宽0.18μm及以上的线栅和各种客户定制设计结构图形；针对亚微米多层套刻光刻产品，严格监控套刻精度，目前已实现套刻精度小于50nm。
承担电子束机台的日常光刻任务，所处理的测试图形丰富多样，包括衍射光学元件（DOE）、超表面、浮雕光栅等图形，以及客户的各类设计图形。通过精细调试涂胶、显影、曝光能量等参数，成功满足客户设计要求，目前最小关键尺寸（CD）可达50nm，整片晶圆关键尺寸均匀性（CDU）小于10%。
设备维护方面：
负责部门黄光设备的日常维护工作，主要涉及涂胶机、曝光机、膜厚仪、临界尺寸扫描电子显微镜（CDSEM）、扫描电子显微镜（SEM）等设备。具体工作包括日常点检、配件更换、及时消除设备报警信息，确保光刻设备始终保持正常运行状态，保障生产不受设备故障影响。
量测与工艺调整方面：
进行CDSEM量测自动Recipe的创建，以此实时监控光刻关键尺寸（CD）的稳定性。同时，积极开展问题排查工作，依据数据反馈及时进行工艺调整，有效保证光刻良率。负责对母板的光刻后检查（ADI）和蚀刻后检查（AEI）数据收集，并对测试的光效零级和均匀性进行深入分析，进一步排查问题并调整工艺，全方位保障光刻良率。
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